




準(zhǔn)分子激光在醫(yī)學(xué)上主要用于屈光不正的治1療,如用PRK、LASIK、LASEK等方法進(jìn)行屈光不正的治1療,是目前臨床上應(yīng)用比較普遍、安全、快捷、有效、穩(wěn)定的屈光不正治1療方法。
美國(guó)IBM公司開(kāi)始使用并且改進(jìn)準(zhǔn)分子激光技術(shù),主要應(yīng)用在計(jì)算機(jī)芯片的制造以及塑料物質(zhì)上蝕刻精1確的圖形。
1980年IBM公司應(yīng)用193nm準(zhǔn)分子激光刨光鉆石。
1982年IBM將準(zhǔn)分子激光技術(shù)應(yīng)用在半導(dǎo)體光刻工藝中.
1986年AT&T貝爾實(shí)驗(yàn)室研制出第1臺(tái)準(zhǔn)分子激光分步投影光刻機(jī).
目前準(zhǔn)分子激光已廣泛應(yīng)用在臨床醫(yī)學(xué)以及科學(xué)研究與工業(yè)應(yīng)用方面,如:鉆孔、標(biāo)記表面處理、激光化學(xué)氣相沉積,物理氣相沉積,磁頭與光學(xué)鏡片和硅晶圓的清潔等方面,微機(jī)電系統(tǒng)相關(guān)的微制造技術(shù).



準(zhǔn)分子激光氣
產(chǎn)品名稱:準(zhǔn)分子激光氣體(Excimer Laser Gases)
其他名稱:氟化ya激光氣體(193nm);氟化ke激光氣體(248nm);氯化氙激光氣體(308nm)
產(chǎn)品類(lèi)型: ArF,KrF,XeCl,5%F2/He,準(zhǔn)分子預(yù)混氣供應(yīng)商, Kr/Ne,F(xiàn)2/Kr/Ne,Ar/Ne,F(xiàn)2/Ar/Ne
UN NO.: UN1956
鋼瓶容積: 11L,16L,20L,49L,準(zhǔn)分子預(yù)混氣價(jià)格,50L
閥門(mén)型號(hào):CGA679,DIN 8,DIN 14
高功率準(zhǔn)分子激光氣體
可用波長(zhǎng)
193 nm
ArF
248 nm
KrF
308 nm
XeCl
450nm~520nm
XeF
較大紫外功率
540 W
較大紫外能量
1100 mj
重復(fù)頻率
可變,準(zhǔn)分子預(yù)混氣廠, 1~600 Hz
脈沖穩(wěn)定性
0.5%~1%,rms
長(zhǎng)期漂移
0.1%~0.5%,rms
光束分布
均勻,安徽準(zhǔn)分子預(yù)混氣,平頂
脈沖寬度
10~20 ns



分子之間形成準(zhǔn)分子是一種物理過(guò)程。由于準(zhǔn)分子的基態(tài)十分不穩(wěn)定,使得準(zhǔn)分子會(huì)在幾個(gè)皮秒的時(shí)間內(nèi)就發(fā)生分解返回單體的基態(tài)。可以認(rèn)為它的激光下能級(jí)是未被粒子占據(jù)的空能級(jí),這樣會(huì)比較容易地形成布居反轉(zhuǎn)狀態(tài)。所以準(zhǔn)分子具有作為增益介質(zhì)的天然屬性。既然無(wú)機(jī)材料可以產(chǎn)生受激發(fā)射,那么有機(jī)材料形成的準(zhǔn)分子在理論上也可以形成受激發(fā)射。與無(wú)機(jī)材料相比,有機(jī)材料形成準(zhǔn)分子所需要的能量比無(wú)機(jī)材料要小得多。另外,有機(jī)材料較無(wú)機(jī)材料種類(lèi)豐富,性質(zhì)也多樣,這為研究有機(jī)準(zhǔn)分子激光器提供了十分豐富的材料基礎(chǔ)。F. P. Scha¨fer曾經(jīng)預(yù)言具有較高熒光效率的有機(jī)分子間所形成的準(zhǔn)分子將是理想的激光工作物質(zhì)。、



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