特種氣體-安徽譜純|老牌企業(yè)-特種氣體生產(chǎn)廠家：

 目前，國內(nèi)共有特種氣體生產(chǎn)企業(yè)達150余家，多數(shù)企業(yè)生產(chǎn)規(guī)模較小。跨國企業(yè)已經(jīng)在國內(nèi)投資設立了眾多合資或獨資的氣體公司，占國內(nèi)銷售氣體產(chǎn)品市場份額的70%左右。硅片的蝕刻氣體（特種氣體）主要是氟基氣體,包括四氟化碳、四氟化碳/氧氣、六氟化硫、六氟乙1烷/氧氣、三氟化氮等。有氣體倉庫貯存。氣瓶倉庫應通風干燥、清潔, 避免陽光直射, 氣瓶庫應清楚明“氣瓶貯存”字樣, 顯示適當?shù)奈ｋU標記(例如、、有毒等) 。 　

20 世紀 80 年代，電子產(chǎn) 業(yè)的興起推動特種氣體的需求提高，隨著氣體供應商供氣模式的引入，國內(nèi) 企業(yè)原有的氣體車間、氣體廠和供氣站等紛紛發(fā)展為獨立的氣體公司，國內(nèi)特種氣體市 場逐步發(fā)展起來。特種氣體的主要生產(chǎn)工序包括氣體合成、氣體純化、氣體混配、氣瓶處理、氣體充裝、氣體分析檢測等步驟，其中氣體的純化、混配等是氣體公司的核心競爭力。特種氣體的儲存注意事項：高壓容器內(nèi)，存有內(nèi)容物時，無論內(nèi)容量多少，在該容器儲存場地2m內(nèi)，嚴禁明火或放置燃、可燃物。場所的環(huán)境溫度≤40℃為佳。

特種氣體在太陽能電池中的應用：晶體硅電池片生產(chǎn)中的擴散工藝用 到 POCl3 和 O2，減反射層 PECVD 工藝用到 SiH4、NH3，刻蝕工藝用到 CF4；特種氣體的儲存注意事項：高壓容器內(nèi)，存有內(nèi)容物時，無論內(nèi)容量多少，在該容器儲存場地2m內(nèi)，嚴禁明火或放置燃、可燃物。場所的環(huán)境溫度≤40℃為佳。特種氣體的儲存注意事項：儲存場地的道路，應占整個場地面積的20%以上。充填容器和空容器需要明確區(qū)分存放。充填容器入庫前需檢漏，長期存放的充填高壓容器需要每月復檢一次，并做記錄。

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