




四氟化碳亦稱全氟化碳、四氟甲1烷、全氟化碳,為非腐蝕性氣體,哈爾濱四氟化碳,所有通用材料如鋼、不銹鋼、銅、青銅,四氟化碳生產廠家,鋁等金屬材料都可以使用。四氟化碳是一種造成溫室效應的氣體。它非常穩(wěn)定,可以長時間停留在大氣層中,是一種非常強大的溫室氣體。四氟化碳一般認為是惰性低毒物質,在高濃度下是窒息劑,其毒性不及四氯1化碳。四氯化1碳與氟化1氫的反應在填有氫氧化鉻的高溫鎳管中進行。


四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量大的等離子燭刻氣體,其高純氣及四氟化碳高純氣配高純陽氧氣的混合體,可廣泛應用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢薄膜材料的燭刻。在電子器件表面清洗、太陽能電池的生產、激光技術、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗劑、控制宇宙火箭姿態(tài)、印刷電路生產中的去污劑等方面也大量使用。由于化學穩(wěn)定性極強,CF4還可以用于金屬冶煉和塑料行業(yè)等。


四氟化碳亦稱全氟化碳、四氟甲1烷、全氟化碳,為非腐蝕性氣體,所有通用材料如鋼、不銹鋼、銅、青銅,鋁等金屬材料都可以使用。產品經除塵,堿洗除去HF、CoF2、SiF4、CO2等雜質、再經脫水可獲得含量約為85%的粗品。將粗品引入低溫精餾釜中進行間歇粗餾,通過控制精餾溫度,除去O2、N2、H2,得到高純CF4。由碳與氟反應,或一氧1化碳與氟反應,或碳化硅與氟反應,四氟化碳價格,或氟石與石油焦在電爐里反應,或二氟二氯甲1烷與反應,四氟化碳廠,或四氯1化碳與氟化銀反應,或四氯1化碳與氟1化氫反應,都能生成四氟1化碳。
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